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光學(xué)除蠟專用清洗劑，光學(xué)除顆粒專用清洗劑

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上海銳一貿(mào)易有限公司

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產(chǎn)品詳情

光學(xué)除蠟專用清洗劑，光學(xué)除顆粒專用清洗劑

Enasolv 365AZ系列：

    產(chǎn)品優(yōu)點：

1> 屬于氟利昂的終替代品，是滿足環(huán)保低碳要求的長期替代，是141B替代的主導(dǎo)方向。

2> 設(shè)備適用性：可以直接沿用HCFC-141B的現(xiàn)有設(shè)備

3> 清洗工藝上適合于噴淋洗、浸泡洗、超聲波、汽相去脂設(shè)備清洗等工藝。

4>   安全性：沒有閃點的。

5> 清洗能力: 比141B有更強的溶解力。

應(yīng)用：

1>   電子清洗應(yīng)用：電子元器件、PCBA板、IPM、IGBT等等波峰焊、回流焊之后的助焊劑去除；印錯版、網(wǎng)版等的焊錫膏的去除；

2>   精密清洗應(yīng)用：精密件

3>   金屬加工清洗：去除油污、顆粒能力強

QQ：2056074594
咨詢電話：周小姐（微信同步）